반도체 제조 공정은 실리콘 웨이퍼 위에 **반도체** 회로를 새기는 일련의 절차이며, 핵심 단계는 **포토리소그래피**, 식각, 증착, 이온 주입으로 구성됩니다. 클린룸에서 진행되는 정밀 작업이 전반적인 성능과 수율을 좌우합니다.